領先的國際半導體貿易組織 SEMI 于 7 月在舊金山舉行了 Semicon 會議。SEMI 預測，2022 年半導體設備需求將出現(xiàn)顯著增長，并在 2023 年之前滿足對新應用的需求和現(xiàn)有產品（如汽車）的短缺。我們還研究了一些使用 EUV 制造更小的特征半導體的發(fā)展。

SEMI 在 Semicon 期間發(fā)布了一份關于半導體設備支出狀況和 2023 年預測的年中總半導體設備預測新聞稿。SEMI 表示，原始設備制造商的全球半導體制造設備總銷售額預計將達到創(chuàng)紀錄的 117.5 美元2022 年 10 億美元，較之前的 2021 年行業(yè)高點 1025 億美元增長 14.7%，并在 2023 年增至 1208 億美元。下圖顯示了半導體設備銷售的近期歷史和到 2023 年的預測。

晶圓廠設備支出預計將在 2022 年增長 15.4% 至 2022 年 1010億美元的新行業(yè)記錄，預計 2023 年將進一步增長 3.2% 至 1043億美元。下圖顯示了 SEMI 對半導體應用設備支出的估計和預測。

SEMI 表示：“在對領先和成熟工藝節(jié)點的需求的推動下，晶圓代工和邏輯領域預計將在 2022 年同比增長 20.6% 至 552 億美元，并在 2023 年再增長 7.9% 至 595 億美元. 這兩個部分占晶圓廠設備總銷售額的一半以上?！?/p>

該新聞稿接著說，“對內存和存儲的強勁需求繼續(xù)推動今年的 DRAM 和 NAND 設備支出。DRAM 設備部門在 2022 年引領擴張，預計增長 8% 至 171 億美元。今年 NAND 設備市場預計將增長 6.8% 至 211 億美元。預計 2023 年 DRAM 和 NAND 設備支出將分別下滑 7.7% 和 2.4%?！?/p>

中國臺灣、中國大陸和韓國是 2022 年最大的設備買家，預計中國臺灣將成為主要買家，其次是中國大陸和韓國。

自從引入集成電路以來，制造更小的特征一直是更高密度半導體器件的持續(xù)推動力。2022 Semicon 的會議探討了光刻縮小和其他方法（例如與 3D 結構和小芯片的異構集成）將如何使設備密度和功能不斷增加。

在 Semicon 期間，Lam Research 宣布與領先的化學品供應商 Entegris 和 Gelest（三菱化學集團旗下公司）合作，為 Lam 用于極紫外 (EUV) 光刻的干式光刻膠技術制造前體化學品。EUV，尤其是下一代高數(shù)值孔徑 (NA) EUV，是推動半導體微縮的關鍵技術，可在未來幾年實現(xiàn)小于 1nm 的特征。

Lam 的副總裁 David Fried 在一次演講中表明，干式（由小金屬有機單元組成）與濕式光刻膠相比，可以提供更高的分辨率、更寬的工藝窗口和更高的純度。對于相同的輻射劑量，干式光刻膠顯示出較少的線路塌陷，因此產生的缺陷較少。此外，使用干式光刻膠可將浪費和成本降低 5-10 倍，并將每個晶圓通過所需的功率降低 2 倍。

來自 ASML 的 Michael Lercel 表示，高數(shù)值孔徑 (0.33 NA) 現(xiàn)在正在生產用于邏輯和 DRAM，如下所示。轉向 EUV 減少了額外的工藝時間和多重圖案化的浪費，以實現(xiàn)更精細的特征。

該圖顯示了 ASML 的 EUV 產品路線圖，并展示了下一代 EUV 光刻設備的尺寸。

SEMI 預測 2022 年和 2023 年半導體設備需求強勁，以滿足需求并減少關鍵組件的短缺。LAM、ASML 的 EUV 開發(fā)將推動半導體特征尺寸低于 3nm。小芯片、3D 芯片堆棧和向異構集成的轉變將有助于推動更密集、功能更強大的半導體器件。

*免責聲明：本文轉載自：半導體行業(yè)觀察。文章內容系作者個人觀點，派利德科技轉載僅為了傳達一種不同的觀點，不代表派利德科技對該觀點贊同或支持，如果有任何異議，歡迎聯(lián)系派利德科技。